在线客服

在线客服QQ

当前位置: 首页 » 资讯 » 热点资讯 » 正文

北方华创刻蚀设备助力化合物半导体产业

放大字体  缩小字体 发布日期:2018-11-05  浏览次数:260
核心提示:近日,北方华创微电子参加了SEMI主办的化合物半导体制程设备及技术研讨会,吸引了300多名行业专家及产业链上下游相关人士参会交
   近日,北方华创微电子参加了SEMI主办的“化合物半导体制程设备及技术研讨会”,吸引了300多名行业专家及产业链上下游相关人士参会交流。

  张轶铭博士代表北方华创在专题论坛上发表题为《高密度ICP刻蚀设备在化合物半导体器件制造中的应用》的演讲,重点介绍了北方华创在化合物领域的特色刻蚀设备与工艺解决方案。NAURA高密度ICP刻蚀设备广泛应用于国内外LED、SiC功率/电力电子、GaN功率与RF通信、硅基IGBT功率、VCSEL等行业。

  随着智能手机、无人驾驶对3D人脸识别、激光雷达、自动对焦等功能的强烈需求,用于点阵投影器、泛光感应元件、接近传感器等组件的核心VCSEL芯片迎来大幅度增长,开启“AI+VR”的新时代。北方华创将继续秉承以客户为导向的持续创新,与客户携手并进,共同开拓产业发展的新蓝图!

 

 
 
[ 资讯搜索 ]  [ 加入收藏 ]  [ 告诉好友 ]  [ 打印本文 ]  [ 违规举报 ]  [ 关闭窗口 ]

 
0条 [查看全部]  相关评论

 
推荐图文
推荐资讯
点击排行
网站首页 | 会员收款二维码 | 关于我们 | 联系方式 | 使用协议 | 版权隐私 | 网站地图 | 排名推广 | 广告服务 | 积分换礼 | 网站留言 | RSS订阅